设备介绍：
采用PECVD等离子体材料工作站，低真空条件下，在射频13.56 MHz作用下产生高活性等离子体，从而实现材料生长、材料表界面改性或材料物相掺杂的一种先进材料制备和材料掺杂改性技术。
ZH系列是本公司自主研发的射频PECVD设备。
由五大子系统组成：气路控制系统、等离子体发生和控制系统、加热系统、真空系统、保护罩。具有操作安全、性能稳定、功能强大等优点。
主要功能：材料制备、材料改性和材料表面处理。
1.1000瓦等离子体功率设计， 1000瓦功率国内首创，实现同行不具备的材料制备功能
2.高性价比：比国际产品价格低70%
3.突破了气体、液体、固态源的等离子体技术
4.原位等离子体装置针对空气敏感材料在物料装样、等离子体反应、开舱取样等过程中不接触空气，从而完成金属负极的原位等离子体界面物相改性，提升材料的界面稳定性和使用寿命等性能。
5.搭售新材料制备技术，协助客户。
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工作环境 |
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电压 |
单相220V±10% |
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频率 |
50±5%Hz |
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湿度 |
0-90% |
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低真空等离子体部分 |
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射频功率 |
1000 W |
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功率范围 |
0-1000W（持续可调） |
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使用区间 |
≤800 W（额定最大功率的80%）长时间运行 |
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起辉方式 |
双电极起辉 |
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射频频率 |
13.56MHZ |
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冷却方式 |
风冷 |
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常压等离子体部分
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工作电压 |
220 V |
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频率范围 |
50Hz |
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起辉方式 |
介质阻挡放电（DBD）起辉 |
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电源功率 |
0-200W |
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冷却方式 |
风冷+水冷 |
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管式炉部分 |
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最高温度 |
1200℃ |
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工作温度 |
室温-800℃ |
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温控范围 |
室温-1100℃ |
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温控方式 |
K型热电偶，控温精度：±1℃ |
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腔体尺寸 |
Φ=25mm与Φ=50mm |
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炉管尺寸 |
石英管直径50mm、长度1000mm |
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流量控制部分 |
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载气系统 |
四路0-200sccm电子控制(流量计可根据工艺情况选择数量） |
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准确度 |
±1.0%F.S |
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重复精度 |
±0.2%F.S |
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连接头与接口 |
双卡套不锈钢接头 Φ6.35 1/4’’耐压：1.5MPa |
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通讯方式 |
数字RS485 |
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真空机组部分 |
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抽气速率 |
18L/s旋片泵
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电机功率 |
2.2KW（三相） |
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进排气口口径 |
25KF |
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连接方式 |
波纹管，挡板阀，压力真空表 |
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噪音 |
58dB |
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重量 |
77kg |
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原位装置部分 |
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原位抗氧化等离子体装置 |
等离子体电源连接线（自制），石英短管Φ=50mm，配套铜环及相应陶瓷环，铝合金挡板阀，50mm配套法兰，气路集成系统 |
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旋转部分 |
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炉管转动系统 |
炉管360°匀速转动连续可调，异形石英管Φ=25mm，异型位 Φ=50m |
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系统部分 |
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操作系统 |
7寸彩色触摸屏，集成化PLC触摸工屏控制，可视化调节温控、气路、真空等系统过程控制 |
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其它 |
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设备构型 |
集成式一体化设备构型 |
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设备净重 |
360kg |
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设备尺寸 |
长1300mm*宽65mm*高1700mm |
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技术能力 |
n 提供垂直石墨烯的等离子体制备技术 n 设备能同时实现气体，固体和液体的三元等离子体激发技术 n 同时适合薄膜和粉体材料制备和改性处理 n 同时具备低真空等离子和常压等离子体材料制备和改性功能 n 同时适合空气敏感、易氧化物质原位等离子体加工处理 |
| 产品名称 : | PECVD等离子体材料工作站 |
| 产品品牌 : | 浙河 |
| 质保年限: | 1年 |
好评度